光刻膠是光刻機生產(chǎn)、芯片生產(chǎn)的核心原材料之一，其作用是用于抗腐蝕涂層材料。雖然我國也能生產(chǎn)光刻膠，但在高端光刻膠領(lǐng)域，我們依然依賴于進(jìn)口。

據(jù)悉，在高端光刻膠領(lǐng)域，日本占據(jù)了全球市場的75%，掌握了高端光刻膠的絕對話語權(quán)。反觀國內(nèi)的高端光刻膠市場份額就比較寒酸，讓人有些難過。

以ArF光刻膠為例，這種光刻膠用于14nm至130nm的芯片、光刻機上，但我國的ArF光刻膠的國產(chǎn)自給率僅為1%，因此我國需要從日企購買ArF光刻膠。

值得慶幸的是我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅猛，多項技術(shù)實現(xiàn)突破，這其中就包括光刻膠的突破。據(jù)悉，國內(nèi)光刻機公司南大光電已經(jīng)開發(fā)出多款A(yù)rF光刻膠，這些光刻膠制程覆蓋到28nm—90nm，并且這些光刻膠得到下游合作伙伴的驗證。

換言之，在ArF光刻膠領(lǐng)域，我國突破了1%的自給率，這對我國光刻機、芯片的發(fā)展起到促進(jìn)作用。

雖然在高端光刻膠領(lǐng)域，我國已經(jīng)實現(xiàn)了1%自給率的突破，但在高端EUV光刻機領(lǐng)域，我們的進(jìn)展依然為零。面對這種奇怪的現(xiàn)象，一些關(guān)心國產(chǎn)光刻機的用戶提出了自己疑問:難道國產(chǎn)ArF光刻膠名不副實嗎？對于這個問題，我認(rèn)為我們要這樣看。

首先是光刻膠的種類有很多，ArF光刻膠只是光刻膠的一種。據(jù)悉，光刻膠可分為5類，分別是EUV光刻膠、ArF光刻膠、KrF光刻膠、g線光刻膠、i線光刻膠。

其中EUV光刻膠生產(chǎn)難度最大，技術(shù)含量最高。而7nm的EUV光刻機就遠(yuǎn)EUV光刻膠。目前南大光電的光刻膠還停留在ArF光刻膠階段，離EUV光刻膠還有不小的差距。

其次是南大光電的ArF光刻膠還在試驗階段，離量產(chǎn)上市還有一段距離。雖然南大光電的ArF光刻膠得到下游合作伙伴的驗證。但這種驗證并不完善，離量產(chǎn)上市還有不小距離。而且一款新材料從試驗階段到量產(chǎn)上市也需要很長一段時間，短則1、2年，長則10年、20年。

由此可見，南大光電的ArF光刻膠在目前的光刻機、芯片研發(fā)上沒有太大作用，這是當(dāng)下不得不承認(rèn)的現(xiàn)實。

再者是光刻機、芯片的研發(fā)生產(chǎn)對光刻膠的材質(zhì)要求非常高。比如一些高端DUV光刻機對光刻膠的覆蓋要求達(dá)到14nm，而南大光電的ArF光刻機覆蓋范圍為28nm—90nm。試問這種光刻膠如何能滿足高端DUV光刻機的研發(fā)、生產(chǎn)呢？

最后是光刻機、芯片的研發(fā)是一項非常復(fù)雜的事情，僅靠光刻膠的突破無法解決問題。一臺EUV光刻機的組裝需要十幾萬個零部件，每一個零部件生產(chǎn)背后都是全球最頂級公司的技術(shù)支撐。

所以南大光電的ArF光刻膠的技術(shù)突破并不能解決光刻機、芯片的研發(fā)生產(chǎn)，而只是加快光刻機、芯片研發(fā)生產(chǎn)的進(jìn)程。

寫在最后

自從華為遭受老美打壓后，國人對國產(chǎn)光刻機、國產(chǎn)芯片的發(fā)展極為關(guān)注。但凡光刻機、芯片的某項技術(shù)實現(xiàn)突破，網(wǎng)絡(luò)上就掀起了一股‘厲害了’‘碾壓其他公司’的言論。

一旦這些技術(shù)無法改變國產(chǎn)光刻機、國產(chǎn)芯片的處境，那么網(wǎng)絡(luò)上就對這些技術(shù)嗤之以鼻，甚至是責(zé)罵。

任何尖端設(shè)備的研發(fā)成功是數(shù)以萬計技術(shù)的突破，靠一項、十幾項技術(shù)突破無法改變現(xiàn)狀。所以網(wǎng)友們還是少一點自大，多一點低調(diào)，唯有如此，我們才能營造良好科研環(huán)境。更多濾芯膠請訪問